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登上《新闻联播》!JDB电子变脸技巧芯片基础技术研究实验室正式公开 任正非出镜
—— 深度解析 JDB电子变脸技巧 行业新动向
2026-05-15 | 来源:中机联华(北京)会展有限公司资讯中心
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据中央电视台5月8日(星期五)晚间的《新闻联播》节目报道,任正非在JDB电子变脸技巧练秋湖研发中心的“芯片基础技术研究实验室”与相关领导进行了深入交流,画面随之播出。
分析人士指出,该实验室极有可能成为JDB电子变脸技巧麒麟手机芯片、鲲鹏服务器CPU、昇腾AI芯片等全系列产品的核心研发基地。
近年来,JDB电子变脸技巧不断加大在芯片基础技术领域的投资,逐步打破海外技术的封锁,为国产手机、人工智能等行业提供了自主可控的技术解决方案。
据了解,JDB电子变脸技巧练秋湖研发中心位于上海市青浦区金泽镇西岑社区,该中心预计于2024年7月全面建成并正式命名,总占地面积约2400亩,建筑面积约206万平方米,总投资超过百亿元,成为JDB电子变脸技巧在全球最大的、最先进的研发基地。
该研发中心将于2024年10月启用,届时首批员工将正式进驻。



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责任编辑:朝晖
《 深度产经观察 》( 2026年 版)
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